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MFLPECVD408-12是一款PECVD系統的管式爐系統。由真空管式爐、射頻電源、供氣系統、真空系統組成。 最高溫度可以達到1200度，采用30段程序溫控儀表，K型熱電偶，爐膛為高純氧化鋁陶瓷纖維,此設備可用于生長納米線或用CVD方法制備各種薄膜。

MFLGM-18系列是一款最高1750℃的真空管式爐。主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理

CVD系統由供氣系統+管式爐+抽氣系統 ，最高溫度可以達到1200度、1400度、1600度、1700度，加熱區間可以是單溫區、雙溫區、三溫區等，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。

MFLGK-17系列是一款最高1650℃的真空管式爐。主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理，優質的爐膛材料和穩定的溫度控制系統，可保證實驗數據的可靠性；法蘭上有進氣口和出氣口，可通入保護氣體，精密針型閥可調節進氣流量。

MFLGM系列是一款最高1650℃的真空管式爐。主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理，優質的爐膛材料和穩定的溫度控制系統，可保證實驗數據的可靠性；法蘭上有進氣口和出氣口，可通入保護氣體，精密針型閥可調節進氣流量。

此系列是一款最高1100℃的真空管式爐。主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理，優質的爐膛材料和穩定的溫度控制系統，可保證實驗數據的可靠性；法蘭上有進氣口和出氣口，可通入保護氣體，精密針型閥可調節進氣流量。